مقایسه بین CVD و PVD
به گزارش میهن دی ال، CVD فرآیندی است که نیروی پرتاب بالایی دارد و رسوب‌گذاری در آن بر خلاف روشهای پراکنشی، تبخیری و دیگر فرآیندهای PVD که رسوب‌گذاری در آن‌ها به صورت جهتدار صورت میپذیرد، جهتدار نیست. بنابراین می‌تواند برای پوشش دادن شکل‌های پیچیده و رسوب لایههای با تطبیقپذیری عالی به کار برده شود. گودیهای عمیق، سوراخها و دیگر شکل‌های سه بعدی پیچیده معمولاً با استفاده از روشCVD به راحتی می‌تواند پوشش داده شود و این ویژگی فرآیند CVD باعث برتری آن نسبت به PVD است.
CVD در مقایسه با PVD دارای پیچیدگی بیشتری است و برای به دست آوردن شرایط رشد مناسب نیازمند تستهای زیادی است. واکنشهای شیمیایی به طور کلی شامل گونههای گازی مختلف و تولید شماری از گونههای واسطه است. همچنین این روش دارای گامهای پیاپی برای رسوبدهی است.
CVD در مقایسه با PVD نیازی به خلأ بالا ندارد و دستگاه به راحتی می‌تواند با شرایط محیطی سازگار گردد که این انعطاف‌پذیری از مزایای بسیار خوب این روش است.